Cañones de Iones (Ion Beam)

VEECO, líder mundial en tecnología Ion Beam.

Fuentes de iones DC, RF para un amplio rango de aplicaciones:

• Limpieza
• Etching (IBE)
• Etching reactivo (RIBE)
• Sputtering
• Deposición asistida
• Implantación Iónica

Fuentes de iones DC de geometría circular y lineal, fáciles de instalar, limpiar y mantener. Estas fuentes producen haz de iones uniformes, utilizados en una variedad de aplicaciones tales como Etching y Deposición. Las fuentes DC son ideales para trabajo en ambientes inertes y oxidantes. Veeco ofrece las siguientes fuentes DC: 3cm DC; 5cm DC; 8cm DC; 11cm DC; 12cm DC; 15cm DC; 21cm DC; 6 x30cm DC; 6 x 40cm DC; and 6 x 50cm DC.

Fuentes de iones RF sin filamento, de bajo mantenimiento, ideales para procesos que utilizan  100% de Argon, Oxigeno y otros gases reactivos. Producen haz de iones uniformes, en ambientes inertes y oxidantes. Ideales para limpieza, etching, sputtering y deposición. Veeco ofrece las siguientes fuentes RF the following RF: 3cm RF; 6cm RF; 12cm RF; 16cm RF; 16cm High Power RF; 6 x 22cm RF; 6 x 66cm RF; and 6 x 110cm RF.

Fuentes de iones, sin rejilla, END-HALL, de bajo mantenimiento. Estas fuentes producen una muy alta densidad de corriente a bajas energías. Estas fuentes están disponibles en varios tamaños, y pueden configurarse con o sin filamentos, dependiendo del proceso. VEECO ofrece las siguientes fuentes: Mark I y Mark II.

http://www.veeco.com/products/Process_Equipment/Ion_Sources/